イオン照射による薄膜用基板の表面制御-結晶性薄膜作製の低温プロセス化-

• Material Type: 図書
• Title: イオン照射による薄膜用基板の表面制御-結晶性薄膜作製の低温プロセス化-
• Title Transcription: イオン ショウシャ ニ ヨル ハクマクヨウ キバン ノ ヒョウメン セイギョ-ケッショウセイ ハクマク サクセイ ノ テイオン プロセスカ-
• Author/Editor: 山内, 和人, 大阪大学
• Author Heading: 山内, 和人 ヤマウチ, カズト
• Publication Date: 1995-1996
• Publication Date (W3CDTF): 1995
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(B)
• Subject Heading: イオン照射 イオンシヨウシヤ; シリコン薄膜 シリコンハクマク; 低温成膜 テイオンセイマク; 基板改質 キバンカイシツ; 多結晶 タケツシヨウ; 液体金属イオン源 エキタイキンゾクイオンゲン
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 07555040
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H07555040
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007004585; http://id.ndl.go.jp/bib/000007004585
• Bibliographic Record Category (NDL): 214