ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究

• Material Type: 図書
• Title: ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究
• Title Transcription: ラジカル セイギョ オ モチイタ ヒョウメン ハンノウ カテイ オヨビ ハクマク ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 後藤, 俊夫, 名古屋大学
• Author Heading: 著者 ： 後藤, 俊夫, 1941- ゴトウ, トシオ, 1941- ( 00292248 )Authorities
• Publication Date: 1996-1998
• Publication Date (W3CDTF): 1996
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(A)
• Subject Heading: プラズマ プラズマ; CVD CVD; ラジカル ラジカル; 多結晶シリコン タケツシヨウシリコン; アモルフアスシリコン アモルフアスシリコン; 赤外半導体レーザ吸収分光法 セキガイハンドウタイレーザキユウシユウブンコウホウ; プロセス プロセス; FT-IR FT-IR
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 08405005
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H08405005
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007011172; http://id.ndl.go.jp/bib/000007011172
• Bibliographic Record Category (NDL): 214