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低温成長分子線エピタキシにおける化合物半導体の成長過程と成長層の特性

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低温成長分子線エピタキシにおける化合物半導体の成長過程と成長層の特性

Call No. (NDL)
Y151-H10450002
Bibliographic ID of National Diet Library
000007058729
Material type
図書
Author
大野, 英男, 東北大学
Publisher
-
Publication date
1998-1999
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
テイオン セイチョウ ブンシセン エピタキシ ニ オケル カゴウブツ ハンドウタイ ノ セイチョウ カテイ ト セイチョウソウ ノ トクセイ
Author/Editor
大野, 英男, 東北大学
Author Heading
著者 : 大野, 英男, 1954- オオノ, ヒデオ, 1954- ( 00714489 )Authorities
Publication Date
1998-1999
Publication Date (W3CDTF)
1998
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)
Subject Heading
分子線エピタキシ (MBE) ブンシセンエピタキシ (MBE)
低温成長MBE テイオンセイチヨウMBE
強磁性半導体 キヨウジセイハンドウタイ
反射高エネルギ電子線回折 ハンシヤコウエネルギデンシセンカイセツ
GaMnAs GAMNAS
GaMnSb GAMNSB
モンテカルロシミユレーシヨン モンテカルロシミユレーシヨン
金属・絶縁体遷移 キンゾク・ゼツエンタイセンイ