イオン照射によるスパツタ薄膜中の残留応力低減

Notes on use

Search by Bookstore

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Material Type: 図書
Title: イオン照射によるスパツタ薄膜中の残留応力低減
Title Transcription: イオンショウシャニヨルスパツタハクマクチュウノザンリュウオウリョクテイゲン
Author/Editor: Nowak, Roman, 広島大学
Author Heading: Nowak, Roman NOWAK, ROMAN (ノバック, ロマン)
Publication Date: 1998-1999
Publication Date (W3CDTF): 1998
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Subject Heading: イオン照射イオンシヨウシヤ
スパツタ薄スパツタハク
残留応力ザンリユウオウリヨク
半導体ハンドウタイ
弾塑性解析ダンソセイカイセキ
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 10650091
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H10650091
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007060311
http://id.ndl.go.jp/bib/000007060311
Bibliographic Record Category (NDL): 214