歪み系Siを用いたキヤリアの高移動度化に関する基礎研究

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Material Type: 図書
Title: 歪み系Siを用いたキヤリアの高移動度化に関する基礎研究
Title Transcription: ヒズミケイ Si オモチイタキヤリアノコウイドウドカニカンスルキソケンキュウ
Author/Editor: 山田, 明, 東京工業大学
Author Heading: 山田, 明ヤマダ, アキラ
Publication Date: 1999-2000
Publication Date (W3CDTF): 1999
Extent: 冊
Additional Title: 研究種目基盤研究(C)
Subject Heading: Si SI
ホツトワイヤーセルホツトワイヤーセル
低温エピタキシヤル成長テイオンエピタキシヤルセイチヨウ
IV族混晶半導体 IVゾクコンシヨウハンドウタイ
歪みヒズミ
NDLC: Y151
Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 11650010
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: Y151-H11650010
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007067120
http://id.ndl.go.jp/bib/000007067120
Bibliographic Record Category (NDL): 214