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超低速イオンビーム蒸着によるSi表面低次元相形成とエピタキシーの研究

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超低速イオンビーム蒸着によるSi表面低次元相形成とエピタキシーの研究

Call No. (NDL)
Y151-H12650033
Bibliographic ID of National Diet Library
000007076671
Material type
図書
Author
生地, 文也, 九州共立大学
Publisher
-
Publication date
2000-2001
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
チョウテイソク イオンビーム ジョウチャク ニ ヨル Si ヒョウメン テイジゲンソウ ケイセイ ト エピタキシー ノ ケンキュウ
Author/Editor
生地, 文也, 九州共立大学
Author Heading
生地, 文也 ショウジ, フミヤ
Publication Date
2000-2001
Publication Date (W3CDTF)
2000
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(C)
Subject Heading
イオン蒸着 イオンジヨウチヤク
エピタキシー エピタキシー
表面構造 ヒヨウメンコウゾウ
イオンー表面相互作用 イオンーヒヨウメンソウゴサヨウ
イオン散乱 イオンサンラン
薄膜成長 ハクマクセイチヨウ
荷電粒子 カデンリユウシ
イオンビーム イオンビーム