不揮発性メモリー用高品質STNO強誘電体膜の低温形成に関する研究

• Material Type: 図書
• Title: 不揮発性メモリー用高品質STNO強誘電体膜の低温形成に関する研究
• Title Transcription: フキハツセイ メモリーヨウ コウヒンシツ STNO キョウ ユウデンタイマク ノ テイオン ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ
• Author/Editor: 平山, 昌樹, 東北大学
• Author Heading: 平山, 昌樹 ヒラヤマ, マサキ
• Publication Date: 2000-2001
• Publication Date (W3CDTF): 2000
• Extent: 冊
• Additional Title: 研究種目 基盤研究(C)
• Subject Heading: 強誘電体 キヨウユウデンタイ; ゲート絶縁膜 ゲートゼツエンマク; LSI LSI; シリコン窒化膜 シリコンチツカマク; マイクロ波プラズマ マイクロハプラズマ; 有機金属ガス ユウキキンゾクガス; パリア膜 パリアマク; 酸素ラジカル サンソラジカル
• NDLC: Y151
• Note (General): 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• Research Project No. of Grants-in-Aid for Scientific Research: 12838001
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y151-H12838001
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000007080187; http://id.ndl.go.jp/bib/000007080187
• Bibliographic Record Category (NDL): 214