Jump to main content
図書

気相雰囲気における半導体表面プロセスのイオンビームその場計測法の開拓

Icons representing 図書

気相雰囲気における半導体表面プロセスのイオンビームその場計測法の開拓

Call No. (NDL)
Y151-H11305006
Bibliographic ID of National Diet Library
000007080440
Material type
図書
Author
尾浦, 憲治郎, 大阪大学
Publisher
-
Publication date
1999-2001
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
-
NDC
-
View All

Notes on use

Note (General):

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

Search by Bookstore

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Paper

Material Type
図書
Title Transcription
キソウ フンイキ ニ オケル ハンドウタイ ヒョウメン プロセス ノ イオンビーム ソノ バ ケイソクホウ ノ カイタク
Author/Editor
尾浦, 憲治郎, 大阪大学
Author Heading
尾浦, 憲治郎 オウラ, ケンジロウ
Publication Date
1999-2001
Publication Date (W3CDTF)
1999
Extent
Additional Title
研究種目 基盤研究(A)
Subject Heading
気相雰囲気下半導体表面プロセス キソウフンイキカハンドウタイヒヨウメンプロセス
CAICISS CAICISS
TOF-ERDA TOF-ERDA
表面水素 ヒヨウメンスイソ
水素サーフアクタント効果 スイソサーフアクタントコウカ
イオンビームその場計測 イオンビームソノバケイソク
気相成長 キソウセイチヨウ
ドライエツチング ドライエツチング