X線リソグラフィにおけるマスクパターン欠陥の転写特性と解像性の向上に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: X線リソグラフィにおけるマスクパターン欠陥の転写特性と解像性の向上に関する研究
Title Transcription: Xセンリソグラフィニオケルマスクパターンケッカンノテンシャトクセイトカイゾウセイノコウジョウニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 渡邊寛 [著]
Author Heading: 渡邊, 寛ワタナベ, ヒロシ
Publication, Distribution, etc.: [渡邊寛]
Publication Date: 2004
Publication Date (W3CDTF): 2004
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 奈良先端科学技術大学院大学
Date Granted: 平成16年3月24日
Date Granted (W3CDTF): 2004
Dissertation Number: 甲第426号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2004-L411
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000007552878
http://id.ndl.go.jp/bib/000007552878
Bibliographic Record Category (NDL): 213