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次世代LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の低温形成と機能評価

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次世代LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の低温形成と機能評価

Call No. (NDL)
Y151-H13450130
Bibliographic ID of National Diet Library
000007572901
Material type
図書
Author
中島寛, 九州大学 [著]
Publisher
[中島寛]
Publication date
2001-2003
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
65p
NDC
-
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Notes on use

Note (General):

文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書

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Paper

Material Type
図書
Title Transcription
ジセダイ LSIヨウ コウユウデンリツ ゲート ゼツエンマク ノ テイオン ケイセイ ト キノウ ヒョウカ
Author/Editor
中島寛, 九州大学 [著]
Author Heading
中島, 寛 ナカシマ, ヒロシ
九州大学 キュウシュウ ダイガク
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
2001-2003
2004.3
Publication Date (W3CDTF)
2001
2003
Extent
65p
Additional Title
研究種目 基盤研究(B)