ゲートスタック研究会 : 材料・プロセス・評価の物理 : 応用物理学会薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第10回研究会

• Material Type: 図書
• Title: ゲートスタック研究会 : 材料・プロセス・評価の物理 : 応用物理学会薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第10回研究会
• Title Transcription: ゲート スタック ケンキュウカイ : ザイリョウ プロセス ヒョウカ ノ ブツリ : オウヨウ ブツリ ガッカイ ハクマク ヒョウメン ブツリ ブンカカイ シリコン テクノロジー ブンカカイ キョウサイ トクベツ ケンキュウカイ ケンキュウ ホウコク : ダイ 10カイ ケンキュウカイ
• Author/Editor: 応用物理学会薄膜・表面物理分科会, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 編
• Series Title: AP ; 052205
• Author Heading: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [東京] : 応用物理学会薄膜・表面物理分科会
• Publication Date: 2005.1
• Publication Date (W3CDTF): 2005
• Extent: 338p
• Size: 30cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: 絶縁・絶縁材料--論文集 ゼツエンゼツエンザイリョウ ロンブンシュウ ( 01030049 )Authorities
• NDC 9th ed.: 541.65 : Electric circuits, measurements and materials
• NDLC: ND97
• Target Audience: 一般
• Note (General): 共同刊行: 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会
• Price: 3000円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND97-H10
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000008059824; http://id.ndl.go.jp/bib/000008059824
• National Bibliography No. (JPNO): 20969440
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Contents: Interface engineering for high-k/Si and high-k/Ge structures / P.C.McIntyre ほか著サブ50nmCMOSの低電力化技術 / 最上徹 著極薄ゲート酸化膜・High-kゲート絶縁膜を用いた次世代CMOSFETの信頼性の課題 / 高...