スパッタリング法による高機能酸化物材料の高速成膜および物性制御に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: スパッタリング法による高機能酸化物材料の高速成膜および物性制御に関する研究
Title Transcription: スパッタリングホウニヨルコウキノウサンカブツザイリョウノコウソクセイマクオヨビブッセイセイギョニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 大野信吾 [著]
Author Heading: 大野, 信吾オオノ, シンゴ
Publication, Distribution, etc.: [大野信吾]
Publication Date: [2008]
Publication Date (W3CDTF): 2008
Extent: 1冊
Alternative Title: Study on high rate depositions of high performance oxide films by reactive magnetron sputtering
Degree grantor/type: 青山学院大学
Date Granted: 平成20年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 2008
Dissertation Number: 甲第168号
Degree Type: 博士 (理学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2008-B412
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009362144
http://id.ndl.go.jp/bib/000009362144
Bibliographic Record Category (NDL): 213