積層セラミックス技術のすべて

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-526-06107-3
• Title: 積層セラミックス技術のすべて
• Title Transcription: セキソウ セラミックス ギジュツ ノ スベテ
• Author/Editor: 一ノ瀬昇, 山本孝 編著
• Author Heading: 一ノ瀬, 昇, 1935- イチノセ, ノボル, 1935- ( 00022483 )Authorities; 山本, 孝, 通信工学 ヤマモト, タカシ, ツウシン コウガク ( 00999725 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 日刊工業新聞社
• Publication Date: 2008.8
• Publication Date (W3CDTF): 2008
• Extent: 202p
• Size: 21cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: エレクトロセラミックス エレクトロセラミックス ( 00577298 )Authorities
• NDC 9th ed.: 549 : Electronic engineering
• NDLC: ND354
• NDC (Introduction of Reference Books): 549
• Introduction (Introduction of Reference Books): 電子部品は日本が国際競争力のある分野の一つであり、電子部品の中でもプロセス技術を有する積層電子部品はその代表例といわれている。積層技術はノウハウ技術であり、学術論文や成書も少ないといわれている。本書は、こうした積層技術についてまとめた解説書。3編構成で、「i.材料開発編」、「ii.プロセス技術編」、「iii.応用デバイス編」からなる。 ; i編では、積層デバイスに利用される材料を取り上げている。BaTiO3(チタン酸バリウム)は積層セラミックスコンデンサの誘電体材料として利用されており、BaTiO3の微粒子化、高結晶化、粒子の均一化、高分散技術について解説している。また、積層インダクタに使用される磁性材料として、NiCuZnフェライトを取り上げ、NiCuZnフェライトの低温焼成技術について紹介している。PZT(ジルコン酸チタン酸鉛)系圧電材料等の解説も付されている。 ; ii編では、積層デバイスを作製するプロセス技術を取り上げている。ZrO2メディアを用いた微粒子化のための粉砕・分散技術や、高速成膜を可能にしたスロット・ダイ薄膜シート方式等について解説している。 ; iii編では、積層コンデンサ、積層インダクタ、積層バリスタ、積層PTCサーミスタ、積層NTCサーミスタ、積層圧電デバイスの6種類の積層デバイスについて解説している。
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 文献あり
• Price: 2800円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND354-J8
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000009467480; http://id.ndl.go.jp/bib/000009467480
• National Bibliography No. (JPNO): 21480713
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

Table of Contents

目次

まえがき/ 1

《プロローグ》

電子機器の小型化・高性能化と積層セラミックスデバイスの開発/ 1

I. 材料開発　編