半導体パターンの高精度転写を可能にする深紫外線リソグラフィーに関する研究

半導体パターンの高精度転写を可能にする深紫外線リソグラフィーに関する研究

Call No. (NDL): UT51-2008-M480
Bibliographic ID of National Diet Library: 000009905024

Material type: 博士論文

Author: 佐藤隆 [著]

Publisher: [佐藤隆]

Publication date: [2007]

Material Format: Paper

Capacity, size, etc.: 1冊

Name of awarding university/degree: 東京工業大学,博士 (工学)

Notes on use

Note (General)：: 博士論文

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Bibliographic Record

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Paper

Material Type: 博士論文
Title: 半導体パターンの高精度転写を可能にする深紫外線リソグラフィーに関する研究
Title Transcription: ハンドウタイパターンノコウセイドテンシャオカノウニスルシンシガイセンリソグラフィーニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 佐藤隆 [著]
Author Heading: 佐藤, 隆サトウ, タカシ
Publication, Distribution, etc.: [佐藤隆]
Publication Date: [2007]
Publication Date (W3CDTF): 2007
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 東京工業大学
Date Granted: 平成19年6月30日
Date Granted (W3CDTF): 2007
Dissertation Number: 乙第3926号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2008-M480
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 000009905024
http://id.ndl.go.jp/bib/000009905024
Bibliographic Record Category (NDL): 213