Study of bottom antireflective coating and gap fill materials under photoresist in ArF lithography

• Material Type: 博士論文
• Title: Study of bottom antireflective coating and gap fill materials under photoresist in ArF lithography
• Author/Editor: Satoshi Takei [著]
• Author Heading: 竹井, 敏 タケイ, サトシ
• Publication, Distribution, etc.: [Satoshi Takei]
• Publication Date: [2009]
• Publication Date (W3CDTF): 2009
• Extent: 1冊
• Alternative Title: ArFリソグラフィー用フォトレジスト下層反射防止膜とギャプフィル材の研究 ArF リソグラフィーヨウ フォトレジスト カソウ ハンシャ ボウシマク ト ギャプ フィルザイ ノ ケンキュウ
• Degree grantor/type: 大阪大学
• Date Granted: 平成21年3月24日
• Date Granted (W3CDTF): 2009
• Dissertation Number: 甲第13485号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2009-C423
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000010260671; http://id.ndl.go.jp/bib/000010260671
• Bibliographic Record Category (NDL): 213