Integration of phase controlled Ni full silicide and HfSiON gate stack for low power and highly reliable CMOS FET

• Material Type: 博士論文
• Title: Integration of phase controlled Ni full silicide and HfSiON gate stack for low power and highly reliable CMOS FET
• Author/Editor: Masayuki Terai [著]
• Author Heading: 寺井, 真之 テライ, マサユキ
• Publication, Distribution, etc.: [Masayuki Terai]
• Publication Date: [2010]
• Publication Date (W3CDTF): 2010
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 低消費電力かつ高信頼なCMOSFET用相制御ニッケルフルシリサイド/ハフニウム酸窒化膜ゲート積層構造の集積化技術の研究 テイ ショウヒ デンリョク カツ コウシンライナ CMOSFETヨウ ソウ セイギョ ニッケル フル シリサイド
• Degree grantor/type: 広島大学
• Date Granted: 平成22年4月16日
• Date Granted (W3CDTF): 2010
• Dissertation Number: 乙第4116号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2011-H277
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000011295356; http://id.ndl.go.jp/bib/000011295356
• Bibliographic Record Category (NDL): 213