Si基板上3C-SiC薄膜の熱改質によるエピタキシャルグラフェン形成とその高品質化に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: Si基板上3C-SiC薄膜の熱改質によるエピタキシャルグラフェン形成とその高品質化に関する研究
Title Transcription: Si キバンジョウ 3C-SiC ハクマクノネツカイシツニヨルエピタキシャルグラフェンケイセイトソノコウヒンシツカニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 半田浩之 [著]
Author Heading: 半田, 浩之ハンダ, ヒロユキ
Publication, Distribution, etc.: [半田浩之]
Publication Date: [2011]
Publication Date (W3CDTF): 2011
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 東北大学
Date Granted: 平成23年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 2011
Dissertation Number: 甲第14030号
Degree Type: 博士 (工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2011-L402
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 023342167
http://id.ndl.go.jp/bib/023342167
Bibliographic Record Category (NDL): 213