Model analysis of plasma-surface interactions during silicon oxide etching in fluorocarbon plasmas

• Material Type: 博士論文
• Title: Model analysis of plasma-surface interactions during silicon oxide etching in fluorocarbon plasmas
• Author/Editor: Hiroshi Fukumoto [著]
• Author Heading: 福本, 浩志 フクモト, ヒロシ
• Publication, Distribution, etc.: [Hiroshi Fukumoto]
• Publication Date: [2012]
• Publication Date (W3CDTF): 2012
• Extent: 1冊
• Alternative Title: フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ-表面相互作用の数値解析 フルオロカーボン プラズマ ニ ヨル サンカ シリコン エッチング ニ オケル プラズマ - ヒョウメン ソウゴ サヨウ ノ スウチ カイセキ
• Degree grantor/type: 京都大学
• Date Granted: 平成24年5月23日
• Date Granted (W3CDTF): 2012
• Dissertation Number: 甲第17064号
• Degree Type: 博士 (工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2012-E707
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 023847664; http://id.ndl.go.jp/bib/023847664
• Bibliographic Record Category (NDL): 213