微細化に向けた低抵抗・高信頼性Cu配線形成の為のバリアメタル成膜技術に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 微細化に向けた低抵抗・高信頼性Cu配線形成の為のバリアメタル成膜技術に関する研究
Title Transcription: ビサイカニムケタテイテイコウコウシンライセイ Cu ハイセンケイセイノタメノバリアメタルセイマクギジュツニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 本山幸一 [著]
Author Heading: 本山, 幸一モトヤマ, コウイチ
Publication, Distribution, etc.: [本山幸一]
Publication Date: [2014]
Publication Date (W3CDTF): 2014
Extent: 1冊
Degree grantor/type: 東北大学
Date Granted: 平成26年3月26日
Date Granted (W3CDTF): 2014
Dissertation Number: 甲第15853号
Degree Type: 博士(工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2014-C25
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 025873239
http://id.ndl.go.jp/bib/025873239
Bibliographic Record Category (NDL): 213