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よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み : シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰 第4版 (図解入門 : How-nual. Visual Guide Book)

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よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み : シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰

第4版

(図解入門 : How-nual. Visual Guide Book)

Call No. (NDL)
ND371-M60
Bibliographic ID of National Diet Library
030587057
Material type
図書
Author
佐藤淳一 著
Publisher
秀和システム
Publication date
2020.9
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
255p ; 21cm
NDC
549.8
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Detailed bibliographic record

Summary, etc.:

半導体製造のプロセスを初心者にもわかりやすく解説した入門書です。(Provided by: 出版情報登録センター(JPRO))

Author introduction:

佐藤淳一 現在、ナノフロント研究所代表として半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。 京都大学大学院工学研究所修士課程修了。1978年、東京電気化学(株)(現TDK)入社。1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、...

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Table of Contents

Provided by:国立国会図書館Link to Help Page
  • よくわかる 最新半導体プロセスの基本と仕組み[第4版] CONTENTS

  • はじめに/ 3

  • 第1章 半導体製造プロセス全体像

  • 1-1 ひとつかみで見る半導体プロセス/ 10

  • 1-2 前工程と後工程の違いとは?/ 13

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    549.8/サ/
    Book Registration Number:
    0180661464
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    549.8-サトウ*ジ-2020
    Book Registration Number:
    10217326513
  • 岩手県立図書館

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    Call No.:
    549.8/サト/
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    1106570151
  • 宮城県図書館

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    549.8/2020.9
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    1011938972
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    549.8-サト
    Book Registration Number:
    109223675
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Paper

Material Type
図書
ISBN
978-4-7980-6245-7
Title Transcription
ヨク ワカル サイシン ハンドウタイ プロセス ノ キホン ト シクミ : シリコン ガ ハンドウタイ ニ ナル セイゾウ コウテイ オ フカン
Author/Editor
佐藤淳一 著
Edition
第4版
Author Heading
佐藤, 淳一, 1954- サトウ, ジュンイチ, 1954- ( 01187810 )Authorities
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
2020.9