紫外光による活性種生成部と成膜部を分離した低温シリコン窒化膜形成技術に関する研究

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Material Type: 博士論文
Title: 紫外光による活性種生成部と成膜部を分離した低温シリコン窒化膜形成技術に関する研究
Title Transcription: シガイコウニヨルカッセイシュセイセイブトセイマクブオブンリシタテイオンシリコンチッカマクケイセイギジュツニカンスルケンキュウ
Author/Editor: 志波良信 [著]
Author Heading: 志波, 良信シバ, ヨシノブ
Publication Date: [2020]
Publication Date (W3CDTF): 2020
Extent: 1冊
Alternative Title: A study on low-temperature formation technology of silicon nitride films with ultraviolet light based active species generation and separated deposition parts
Degree grantor/type: 東北大学
Date Granted: 令和2年3月25日
Date Granted (W3CDTF): 2020
Dissertation Number: 甲第19301号
Degree Type: 博士(工学)
Note (Dissertation): 博士論文
Place of Publication (Country Code): JP
Text Language Code: jpn
Content Type: テキスト
Media Type: 機器不用
Carrier Type: 冊子
NDLC: UT51
Target Audience: 一般
Note (General): 博士論文
Holding library: 国立国会図書館
Call No.: UT51-2020-A267
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
Bibliographic ID (NDL): 031445730
http://id.ndl.go.jp/bib/031445730
Bibliographic Record Category (NDL): 213