水彩画静かな光を求めて : あべとしゆき制作ノート

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-8170-2242-4
• Title: 水彩画静かな光を求めて : あべとしゆき制作ノート
• Title Transcription: スイサイガ シズカ ナ ヒカリ オ モトメテ : アベ トシユキ セイサク ノート
• Author/Editor: あべとしゆき 著
• Edition: 新装版
• Author Heading: 著者 ： あべ, としゆき, 1959- アベ, トシユキ, 1959- ( 001129307 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 日貿出版社 (出版)
• Publication Date: 2024.10
• Publication Date (W3CDTF): 2024
• Extent: 127p
• Size: 26cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn; eng
• Note (Text Language): 英語一部併記
• Content Type: テキスト
• Media Type: 機器不用
• Carrier Type: 冊子
• Subject Heading: 水彩画 技法
• NDC 10th ed.: 724.4 : Painting. Pictorial arts--Materials and techniques
• NDLC: Y78
• Target Audience: 一般
• Price: 2400円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: Y78-R620
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 033709451; http://id.ndl.go.jp/bib/033709451
• National Bibliography No. (JPNO): 24030621
• TOHAN MARC No.: 34657227
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules 2018 Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 115

• Summary, etc.: 光と影を捉え、細密に描き込んだ静謐な自然風景。草花、樹木、水、雪景など65点に引き込まれる。うち７点に制作に関するコメント、２点に描法プロセス付き。世界中にファンを持つ水彩画家の初著作が、装い新たに再刊行！(Provided by: 出版情報登録センター（JPRO）)