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Table of Contents
第1部 ドーピングの基礎
第1章 シリコン中の1×10^10から1×10^20cm^-3にわたる濃度範囲のドーパント不純物のフォトルミネッセンス評価
第2章 シリコン基板中のドーパントとその制御
第3章 シリコン中の不純物原子の活性化とそのからくり
第4章 ドーパントによる電子準位とドーパント拡散のミクロな機構：計算科学によるアプローチ
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- Material Type
- 図書
- ISBN
- 978-4-7649-0718-8
- Title
- Title Transcription
- シリコン ニ ドウニュウサレタ ドーパント ノ ブツリ
- Author/Editor
- 応用物理学会半導体分野将来基金委員会 編
- Author Heading
- 編者 ： 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
- Publication, Distribution, etc.
- Publication Date
- 2025.2
- Publication Date (W3CDTF)
- 2025
- Extent
- 361 p