事後評価書 : 次世代半導体デバイスプロセス等基盤技術プログラム(事後評価 平成16年度)

• Material Type: 電子書籍・電子雑誌
• Title: 事後評価書 : 次世代半導体デバイスプロセス等基盤技術プログラム
• Series Title: 事後評価 平成16年度
• Publication, Distribution, etc.: 日本 : 経済産業省
• Publication Date: 2005-03
• Publication Date (W3CDTF): 2005-03
• Text Language Code: jpn
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/1009112; https://dl.ndl.go.jp/pid/1009112
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 国の機関 > 中央省庁 > 経済産業省; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00021
• Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
• Date Accepted (W3CDTF): 2010-04-02T15:57:23+09:00
• Date Captured (W3CDTF): 2009-07-17
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/286890/www.meti.go.jp/policy/policy_management/16fy-jigo-hyoka/jisedaihanndoutai/16FY-JIGO-jisedaihanndoutai.htm
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

Table of Contents

平成１６年度事後評価書（次世代半導体デバイスプロセス等基盤技術プログラム）

上記評価書の要旨