事後評価書 : 次世代半導体デバイスプロセス等基盤技術プログラム(事後評価平成16年度)

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Material Type: 電子書籍・電子雑誌
Title: 事後評価書 : 次世代半導体デバイスプロセス等基盤技術プログラム
Series Title: 事後評価平成16年度
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 経済産業省
Publication Date: 2005-03
Publication Date (W3CDTF): 2005-03
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/1009112
https://dl.ndl.go.jp/pid/1009112
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 国の機関 > 中央省庁 > 経済産業省
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00021
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2010-04-02T15:57:23+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2009-07-17
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/286890/www.meti.go.jp/policy/policy_management/16fy-jigo-hyoka/jisedaihanndoutai/16FY-JIGO-jisedaihanndoutai.htm
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp