第 1 部 (2) 半導体集積回路における微細金属薄膜配線の断線故障予測

• Material Type: 記事
• Title: 第 1 部 (2) 半導体集積回路における微細金属薄膜配線の断線故障予測
• Author/Editor: 笹川,和彦; 長谷川,昌孝; 坂,真澄; 阿部,博之
• Publication, Distribution, etc.: 日本 : 日本機械学会
• Publication Date: 2003-03-27
• Publication Date (W3CDTF): 2003-03-27
• Alternative Title: Prediction of Electromigration Failure in Passivated Polycrystalline Lines in IC
• Periodical title: 材料力学部門春のシンポジウム講演論文集
• No. or year of volume/issue: 2003
• Volume: 2003
• Pages: 7-10
• Text Language Code: JPN
• Alias of Author: SASAGAWA,Kazuhiko; HASEGAWA,Masataka; SAKA,Masumi; ABE,Hiroyuki
• Subject Heading: Governing Parameter; Passivated Polycrystalline Line; Failure Prediction; Electromigration Failure
• Note (General): 著者所属: 弘前大; 著者所属: 東北大; Affiliation: Hirosaki University; Affiliation: Tohoku University
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10351208; https://dl.ndl.go.jp/pid/10351208
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• Acquisition Basis: NII-ELS
• Available (W3CDTF): 2017-06-22
• Date Accepted (W3CDTF): 2017-05-19
• Date Captured (W3CDTF): 2017-05-19
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10356242; https://dl.ndl.go.jp/pid/10356242
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• Summary, etc.: Recently, a governing parameter for electromigration damage in passivated polycrystalline lines, (AFD)^*_<gen>, was formulated. The new parameter prop...