プロセシングプラズマ中の微粒子

• Material Type: 記事
• Title: プロセシングプラズマ中の微粒子
• Author/Editor: 渡辺,征夫; 白谷,正治
• Publication, Distribution, etc.: 日本 : プラズマ・核融合学会
• Publication Date: 1993-07-25
• Publication Date (W3CDTF): 1993-07-25
• Alternative Title: Particles in Processing Plasmas
• Periodical title: プラズマ・核融合学会誌
• No. or year of volume/issue: 69(7)
• Volume: 69(7)
• Pages: 752-763
• Text Language Code: JPN
• Alias of Author: Watanabe,Yukio; Shiratani,Masaharu
• Subject Heading: rf plasma; processing plasma; dusty plasma; plasma CVD; plasma etching; particulate; dust; laser light scattering; rf discharge; particle
• Note (General): 著者所属: 九州大学工学部; Affiliation: Faculty of Engineering, Kyushu University; Affiliation: Facudty of Engineering, Kyushu University
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10451451; https://dl.ndl.go.jp/pid/10451451
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• Acquisition Basis: NII-ELS
• Available (W3CDTF): 2017-08-23
• Date Accepted (W3CDTF): 2017-08-15
• Date Captured (W3CDTF): 2017-08-15
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10388767; https://dl.ndl.go.jp/pid/10388767
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• Summary, etc.: Particles of submicron-order size are generated in a processing plasma, especially an rf plasma used widely. These have been pointed out to induce ser...