単分子吸着したNi(111)表面のCr-Lα, Al-Kα線光電子回折における光源依存性

• Material Type: 記事
• Title: 単分子吸着したNi(111)表面のCr-Lα, Al-Kα線光電子回折における光源依存性
• Author/Editor: 中村,仁; 田村,圭司; 石井,秀司; 尾張,真則; 大島,忠平; 二瓶,好正
• Publication, Distribution, etc.: 日本 : 日本分析化学会
• Publication Date: 2003-10-05
• Publication Date (W3CDTF): 2003-10-05
• Alternative Title: Dependence of photoelectron diffraction of single molecule adsorbing Ni(111) surface on the sources of Cr-Lα and Al-Kα lines
• Periodical title: 分析化学
• No. or year of volume/issue: 52(10)
• Volume: 52(10)
• Pages: 859-863
• Text Language Code: jpn
• Alias of Author: AKAMURA,Hitoshi; TAMURA,Keiji; ISHII,Hideshi; OWARI,Masanori; OSHIMA,Chuhei; NIHEI,Yoshimasa
• Subject Heading: X-ray photoelectron diffraction; multiple scattering cluster with spherical wave; h-BN; Ni(111); Kikuchi-like band; forward scattering peak
• Note (General): 著者所属: 東京理科大学理工学部:東京大学生産技術研究所; 著者所属: 東京大学生産技術研究所:早稲田大学理工学部; 著者所属: 東京大学生産技術研究所; 著者所属: 東京大学生産技術研究所:東京大学環境安全研究センター; 著者所属: 早稲田大学理工学部; Affiliation: Faculty of Science and Technology, Tokyo University of Science:Institute of Industrial Science, University of Tokyo; Affiliation: Institute of industrial Science, University of Tokyo:Facult of Science and Engineering, Waseda University; Affiliation: Institute of Industrial Science, University of Tokyo; Affiliation: Institute of Industrial Science:Environmental Science Center, University of Tokyo; Affiliation: Faculty of Science and Engineering, Waseda University; Affiliation: Faculaty of Science and Technology, Tokyo University of Science:Institute of Industrial Science, University of Tokyo
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10895585; https://dl.ndl.go.jp/pid/10895585
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• Acquisition Basis: NII-ELS
• Available (W3CDTF): 2017-08-30
• Date Accepted (W3CDTF): 2017-08-22
• Date Captured (W3CDTF): 2017-08-22
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10399588; https://dl.ndl.go.jp/pid/10399588
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• Summary, etc.: 強力なCr-Lα線(572.8eV),Al-Kα線(1486.6eV)の2種の光源を用いて軽元素単原子層薄膜系であるh-BN/Ni(111)における両者の光電子回折パターンの詳細な比較を行い,その励起光源依存性を明らかにした.同時に実測と理論計算との詳細な比較により表面の詳細な構造解析を行うことを目...