サーフォンとシリコン反転層の電子移動度(基研短期研究会「固体内のフォノンおよび電子表面状態の理論」報告)

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Material Type: 記事
Title: サーフォンとシリコン反転層の電子移動度(基研短期研究会「固体内のフォノンおよび電子表面状態の理論」報告)
Author/Editor: 川路,紳治
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 物性研究刊行会
Publication Date: 1973-10-20
Publication Date (W3CDTF): 1973-10-20
Periodical title: 物性研究
No. or year of volume/issue: 21(1)
Volume: 21(1)
Pages: F7-F8
Text Language Code: JPN
Note (General): 著者所属: 学習院大理
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10928768
https://dl.ndl.go.jp/pid/10928768
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
Acquisition Basis: NII-ELS
Available (W3CDTF): 2017-08-30
Date Accepted (W3CDTF): 2017-08-22
Date Captured (W3CDTF): 2017-08-22
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10400061
https://dl.ndl.go.jp/pid/10400061
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp