無電解キャップめっきプロセス : 無電解めっきによるCu配線上へのCo合金薄膜の形成技術

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11042089

Material type: 記事

Author: 王新明ほか

Publisher: 荏原製作所

Publication date: 2005

Material Format: Digital

Journal name: エバラ時報 (207)

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Digital

Material Type: 記事
Title: 無電解キャップめっきプロセス : 無電解めっきによるCu配線上へのCo合金薄膜の形成技術
Author/Editor: 王新明
高木大輔
尾渡晃
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 荏原製作所
Publication Date: 2005
Publication Date (W3CDTF): 2005
Alternative Title: Electroless plating process for cobalt alloying capping
Periodical title: エバラ時報
No. or year of volume/issue: (207)
Volume: (207)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11042089
https://dl.ndl.go.jp/pid/11042089
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: オンライン資料収集制度
Date Accepted (W3CDTF): 2018-02-07T20:51:44+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2017-12-27
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Periodical Title (URI): https://www.ebara.co.jp/about/technologies/abstract/detail/1196180_4292.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/11042085
https://dl.ndl.go.jp/pid/11042085
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp