シリコンウェーハ研磨におけるヒドロキシエチルセルロース (HEC) の界面吸着挙動に関する研究と応用

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11094944

Material type: 博士論文

Author: 土屋, 公亮

Publisher: 土屋, 公亮

Publication date: 2017

Material Format: Digital

Capacity, size, etc.: -

Name of awarding university/degree: 三重大学,博士(工学)

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Digital

Material Type: 博士論文
Title: シリコンウェーハ研磨におけるヒドロキシエチルセルロース (HEC) の界面吸着挙動に関する研究と応用
Author/Editor: 土屋, 公亮
Publication, Distribution, etc.: 土屋, 公亮
Publication Date: 2017
Publication Date (W3CDTF): 2017
Alternative Title: Investigation and application of adsorbing behavior of hydroxyethyl cellulose on the surfaces during Si wafer polishing
Degree grantor/type: 三重大学
Date Granted: 2017-12-20
Date Granted (W3CDTF): 2017-12-20
Dissertation Number: 甲第1874号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: jpn
Alias of Author: Tsuchiya, K.
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11094944
https://dl.ndl.go.jp/pid/11094944
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（送信）
Date Accepted (W3CDTF): 2018-05-15T21:00:36+09:00
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 非公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 不可
Note (Availability): 本博士論文は、学位授与機関からの申し出により国立国会図書館では閲覧できません。閲覧を希望される場合は、学位授与機関に直接お問い合わせください。
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp