X線光電子分光法によるHigh-kゲートスタック構造の電子状態および界面ダイポールに関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: X線光電子分光法によるHigh-kゲートスタック構造の電子状態および界面ダイポールに関する研究
• Author/Editor: 藤村, 信幸
• Author Heading: 藤村, 信幸
• Publication Date: 2018-03-26
• Publication Date (W3CDTF): 2018-03-26
• Alternative Title: Study of Electronic States and Interfacial Dipoles in High-k Dielectric Gate Stacks by X-ray Photoelectron Spectroscopy
• Degree grantor/type: 名古屋大学
• Date Granted: 2018-03-26
• Date Granted (W3CDTF): 2018-03-26
• Dissertation Number: 甲第12306号
• Degree Type: 博士(工学)
• Conferring No. (Dissertation): 甲第12306号
• Text Language Code: jpn
• Target Audience: 一般
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11116722; https://dl.ndl.go.jp/pid/11116722
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• Acquisition Basis: 博士論文（自動収集）
• Date Accepted (W3CDTF): 2018-07-03T21:49:10+09:00
• Format (IMT): PDF; application/pdf
• Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
• Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
• Availability of remote photoduplication service: 可
• Periodical Title (URI): http://hdl.handle.net/2237/00027722; https://nagoya.repo.nii.ac.jp/records/25510
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

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2023-12-09 再収集

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