Measurement and analysis of plasma induced damages on fabrication processes of ultra large scale integrated circuits

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国立国会図書館デジタルコレクション

Measurement and analysis of plasma induced damages on fabrication processes of ultra large scale integrated circuits

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Material Type: 博士論文
Title: Measurement and analysis of plasma induced damages on fabrication processes of ultra large scale integrated circuits
Author/Editor: 張, 彦
Publication, Distribution, etc.: 張, 彦
Publication Date: 2018
Publication Date (W3CDTF): 2018
Alternative Title: 大規模集積回路製造プロセスにおけるプラズマ誘起ダメージの計測と解析
Degree grantor/type: 名古屋大学
Date Granted: 2018-03-26
Date Granted (W3CDTF): 2018-03-26
Dissertation Number: 甲第12299号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: eng
Alias of Author: Zhang, Yan
Y. Zhang
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11133903
https://dl.ndl.go.jp/pid/11133903
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（送信）
Date Accepted (W3CDTF): 2018-08-31T20:41:42+09:00
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp