Ⅲ-Ⅴ族化合物半導体へのイオン注入 : Si[+]とSn[+]注入GaAsのキャリヤ活性化機構

• Material Type: 博士論文
• Title: Ⅲ-Ⅴ族化合物半導体へのイオン注入 : Si[+]とSn[+]注入GaAsのキャリヤ活性化機構
• Title Transcription: 3 - 5ゾク カゴウブツ ハンドウタイ エ ノ イオン チュウニュウ : Si+ ト Sn+ チュウニュウ GaAs ノ キャリヤ カッセイカ キコウ
• Author/Editor: 沈泰彦 [著]
• Author Heading: 沈, 泰彦 シム, テオン
• Alternative Title: Ion implantation to Ⅲ-Ⅴ compound semiconductor : carrier activation of Si and Sn implanted GaAs
• Degree Grantor: 早稲田大学
• Date Granted: 平成1年6月22日
• Date Granted (W3CDTF): 1989
• Dissertation Number: 甲第801号
• Degree Type: 工学博士
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Alias of Author: Shim, Tae-earn
• NDLC: UT51; UT31
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-90-K93
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 000000230980; http://id.ndl.go.jp/bib/000000230980
• Bibliographic Record Category (NDL): 213

• DOI: 10.11501/11393346; https://doi.org/10.11501/11393346
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11393346; https://dl.ndl.go.jp/pid/11393346
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (Materials For Handicapped People:2): プレーンテキスト
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• Producer: 国立国会図書館
• Production year (W3CDTF): 2020-03-17
• Date Accepted (W3CDTF): 2019-11-26T10:28:15+09:00
• Format (IMT): image/jp2
• Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
• Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象
• Availability of remote photoduplication service: 可
• Call No.: UT51-90-K93
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp