ミストCVD法による各種薄膜形成技術

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Bibliographic Record

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Material Type: 記事
Title: ミストCVD法による各種薄膜形成技術
Author/Editor: 四戸孝
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 関東化学
Publication Date: 2019-10
Publication Date (W3CDTF): 2019-10
Alternative Title: Thin film formation technologies by mist CVD method
Periodical title: The chemical times
No. or year of volume/issue: (254)
Volume: (254)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11573779
https://dl.ndl.go.jp/pid/11573779
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: オンライン資料収集制度
Date Accepted (W3CDTF): 2020-11-18T20:50:49+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2019-12-20
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Periodical Title (URI): https://www.kanto.co.jp/times.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/11573777
https://dl.ndl.go.jp/pid/11573777
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp