Study on new plasma processes for growth and etching of GaN thin films

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Material Type: 博士論文
Title: Study on new plasma processes for growth and etching of GaN thin films
Author/Editor: 谷出, 敦
Publication, Distribution, etc.: 谷出, 敦
Publication Date: 2020
Publication Date (W3CDTF): 2020
Alternative Title: GaNの新しいプラズマ成膜及びエッチングに関する研究
Degree grantor/type: 名古屋大学
Date Granted: 2020-03-25
Date Granted (W3CDTF): 2020-03-25
Dissertation Number: 甲第13136号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: eng
Alias of Author: Tanide, Atsushi
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11595385
https://dl.ndl.go.jp/pid/11595385
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（送信）
Date Accepted (W3CDTF): 2020-12-16T22:01:22+09:00
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp