Study on defect characterization of Ge gate stacks using deep-level transient spectroscopy

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11634449

Material type: 博士論文

Author: 温, 偉辰

Publisher: -

Publication date: 2020-09-25

Material Format: Digital

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Name of awarding university/degree: 九州大学,博士（工学）

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Digital

Material Type: 博士論文
Title: Study on defect characterization of Ge gate stacks using deep-level transient spectroscopy
Author/Editor: 温, 偉辰
Publication Date: 2020-09-25
Publication Date (W3CDTF): 2020-09-25
Alternative Title: DLTS法を用いたGeゲートスタックの欠陥評価に関する研究
Contributor: 服部, 励治
中島, 寛
佐道, 泰造
王, 冬
Degree grantor/type: 九州大学
Date Granted: 2020-09-25
Date Granted (W3CDTF): 2020-09-25
Dissertation Number: 甲第15265号
Degree Type: 博士（工学）
Conferring No. (Dissertation): 甲第15265号
Text Language Code: eng
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11634449
https://dl.ndl.go.jp/pid/11634449
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（自動収集）
Date Accepted (W3CDTF): 2021-02-07T06:27:20+09:00
Date Created (W3CDTF): 2020-11-13
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Periodical Title (URI): http://hdl.handle.net/2324/4110526
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp