基板研磨および洗浄プロセスにおける水溶性フラーレン誘導体に関する研究

• Material Type: 博士論文
• Title: 基板研磨および洗浄プロセスにおける水溶性フラーレン誘導体に関する研究
• Author/Editor: 蔡, 岳勲
• Author Heading: 蔡, 岳勲
• Publication Date: 2021-09-24
• Publication Date (W3CDTF): 2021-09-24
• Alternative Title: Study on Water-soluble Fullerene Derivatives in Substrate Chemical Mechanical Polishing and Cleaning Process
• Contributor: 鈴木, 恵友
• Degree grantor/type: 九州工業大学
• Date Granted: 2021-09-24
• Date Granted (W3CDTF): 2021-09-24
• Dissertation Number: 甲第361号
• Degree Type: 博士（情報工学）
• Conferring No. (Dissertation): 甲情工第361号
• Text Language Code: eng
• Alias of Author: Tsai, Yueh-Hsun
• Subject Heading: Silicon carbide substrate; chemical mechanical polishing; wafer cleaning process; water-soluble fullerene derivatives; cyclodextrin inclusion complex; fullerenol
• Target Audience: 一般
• Note (General): 九州工業大学博士学位論文 学位記番号：情工博甲第361号 学位授与年月日：令和3年9月24日; 令和3年度
• DOI: 10.18997/00008587; https://doi.org/10.18997/00008587
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11929307; https://dl.ndl.go.jp/pid/11929307
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• Acquisition Basis: 博士論文（自動収集）
• Date Accepted (W3CDTF): 2021-12-07T08:33:55+09:00
• Date Created (W3CDTF): 2021-11-29
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
• Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
• Availability of remote photoduplication service: 可
• Periodical Title (URI): https://doi.org/10.18997/00008587; http://hdl.handle.net/10228/00008587
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

• Summary, etc.: Silicon carbide （SiC） is the most appropriate semiconductor material for power devices, electric vehicles, and 5G technology due to its high bandgap, ...

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