低熱伝導率ナノ構造を導入したSi系熱電材料における高出力因子化に関する研究

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/12362159

Material type: 博士論文

Author: 坂根, 駿也

Publisher: 坂根, 駿也

Publication date: 2020

Material Format: Digital

Capacity, size, etc.: -

Name of awarding university/degree: 大阪大学,博士(工学)

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Digital

Material Type: 博士論文
Title: 低熱伝導率ナノ構造を導入したSi系熱電材料における高出力因子化に関する研究
Author/Editor: 坂根, 駿也
Publication, Distribution, etc.: 坂根, 駿也
Publication Date: 2020
Publication Date (W3CDTF): 2020
Degree grantor/type: 大阪大学
Date Granted: 2020-03-25
Date Granted (W3CDTF): 2020-03-25
Dissertation Number: 甲第20910号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/12362159
https://dl.ndl.go.jp/pid/12362159
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（送信）
Date Accepted (W3CDTF): 2022-11-08T13:55:06+09:00
Format (IMT): PDF
Access Restrictions: 非公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 不可
Note (Availability): 本博士論文は、学位授与機関からの申し出により国立国会図書館では閲覧できません。閲覧を希望される場合は、学位授与機関に直接お問い合わせください。
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp