熱CVD法によるSiO_2薄膜生成過程における熱物質移動解析および粉体生成を伴った新規反応モデルの提案

• Material Type: 博士論文
• Title: 熱CVD法によるSiO_2薄膜生成過程における熱物質移動解析および粉体生成を伴った新規反応モデルの提案
• Title Transcription: ネツ CVD ホウ ニヨル SiO2 ウスマク セイセイ カテイ ニオケル ネツ ブッシツ イドウ カイセキ オヨビ フンタイ セイセイ オ トモナッタ シンキ ハンノウ モデル ノ テイアン
• Author/Editor: 本田, 美咲
• Author Heading: 本田, 美咲
• Publication Date: 2022-03-16
• Publication Date (W3CDTF): 2022-03-16
• Alternative Title: Heat and mass transfer analysis during the formation process of SiO_2 thin solid film by thermal chemical vapor deposition and proposal of new chemical reaction model with particle generation
• Degree grantor/type: 山口大学
• Date Granted: 2022-03-16
• Date Granted (W3CDTF): 2022-03-16
• Dissertation Number: 創科博甲第83号
• Degree Type: 博士(工学)
• Text Language Code: jpn
• Target Audience: 一般
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/12768857; https://dl.ndl.go.jp/pid/12768857
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• Acquisition Basis: 博士論文（自動収集）
• Date Accepted (W3CDTF): 2023-04-07T23:08:37+09:00
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
• Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
• Availability of remote photoduplication service: 可
• Periodical Title (URI): https://petit.lib.yamaguchi-u.ac.jp/29061
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp