Development of High-Low Kelvin probe force microscopy for semiconductor surface

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13116207

Material type: 博士論文

Author: 和泉, 遼

Publisher: 和泉, 遼

Publication date: 2022

Material Format: Digital

Capacity, size, etc.: -

Name of awarding university/degree: 大阪大学,博士(工学)

View All

Notes on use at the National Diet Library

本資料は、掲載誌(URI)等のリンク先にある学位授与機関のWebサイトやCiNii Dissertationsから、本文を自由に閲覧できる場合があります。

Search by Bookstore

Read this material in an accessible format.

View materials in accessible formats for people with print disabilities (1Type)

Search by Bookstore

Read in Disability Resources

Other Services
- テキストデータ check it on 国立国会図書館デジタルコレクション

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Digital

Material Type: 博士論文
Title: Development of High-Low Kelvin probe force microscopy for semiconductor surface
Author/Editor: 和泉, 遼
Publication, Distribution, etc.: 和泉, 遼
Publication Date: 2022
Publication Date (W3CDTF): 2022
Alternative Title: 半導体表面を対象とするHigh-Lowケルビンプローブ力顕微鏡法の開発
Degree grantor/type: 大阪大学
Date Granted: 2022-09-22
Date Granted (W3CDTF): 2022-09-22
Dissertation Number: 甲第22442号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: eng
Alias of Author: Izumi, Ryo
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13116207
https://dl.ndl.go.jp/pid/13116207
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（送信）
Date Accepted (W3CDTF): 2023-12-05T12:13:16+09:00
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 非公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 不可
Note (Availability): 本博士論文は、学位授与機関からの申し出により国立国会図書館では閲覧できません。閲覧を希望される場合は、学位授与機関に直接お問い合わせください。
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp