二周波重畳容量結合型フルオロカーボンプラズマ中のイオン挙動解析とシリコン絶縁膜エッチングに関する研究

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13723233

Material type: 博士論文

Author: 久保井, 宗一

Publisher: -

Publication date: 2024-03-25

Material Format: Digital

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Name of awarding university/degree: 名古屋大学,博士(工学)

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Digital

Material Type: 博士論文
Title: 二周波重畳容量結合型フルオロカーボンプラズマ中のイオン挙動解析とシリコン絶縁膜エッチングに関する研究
Author/Editor: 久保井, 宗一
Author Heading: 久保井, 宗一
Publication Date: 2024-03-25
Publication Date (W3CDTF): 2024-03-25
Alternative Title: Study on the ion behavior analysis and silicon dielectric films etching in a superimposed dual-frequency capacitively coupled fluorocarbon plasma
Degree grantor/type: 名古屋大学
Date Granted: 2024-03-25
Date Granted (W3CDTF): 2024-03-25
Dissertation Number: 甲第14933号
Degree Type: 博士(工学)
Text Language Code: jpn
Target Audience: 一般
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/13723233
https://dl.ndl.go.jp/pid/13723233
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（自動収集）
Date Accepted (W3CDTF): 2024-07-05T22:07:03+09:00
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Periodical Title (URI): http://hdl.handle.net/2237/0002010162
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp