電気化学および工業物理化学 = Denki kagaku58(2)

• Material Type: 雑誌
• Title: 電気化学および工業物理化学
• Title Transcription: デンキ カガク オヨビ コウギョウ ブツリ カガク
• Volume: 58(2)
• Author Heading: 電気化学協会 デンキ カガク キョウカイ ( 00277872 )Authorities; 電気化学会 デンキ カガッカイ ( 00793994 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : 電気化学協会
• Publication, distribution, etc. (Current/latest publisher): 東京 : 電気化学会
• Publication Date: 1990-02
• Publication Date (W3CDTF): 1990-02
• Note (Publication, distribution, etc.): 64巻6号から85巻12号までの出版者: 電気化学会
• Year and volume of publication: 29巻6号 (昭和36年6月)-85巻12号 (平成29年12月号)
• Size: <30>cm
• Alternative Title: Denki kagaku Denki kagaku; Denki kagaku; Electrochemistry
• ISSN (Periodical Title): 0366-9297; 1344-3542
• ISSN-L (Periodical Title): 0366-9297; 1344-3542
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn; eng
• NDLC: ZP1
• Note (General): 67巻1号から85巻12号までの本タイトル: Electrochemistry; 67巻1号から85巻12号までの並列タイトル: 電気化学および工業物理化学; 82巻1号から85巻12号までの編者: 電気化学会; 大きさの変更あり
• Note (Cumulative Index): 総目次・総索引あり
• DOI: 10.11501/3332865; https://doi.org/10.11501/3332865
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/3332865; https://dl.ndl.go.jp/pid/3332865
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 雑誌; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00002
• Producer: 国立国会図書館
• Production year (W3CDTF): 2011-03-31
• Available (W3CDTF): 2012-04-11
• Available: internet (W3CDTF): 2020-08-03
• Date Accepted (W3CDTF): 2012-01-30T13:17:04+09:00
• Format (IMT): image/jp2
• Access Restrictions: インターネット公開
• Availability of remote photoduplication service: 不可
• Year and volume of holding: 29巻6号 (昭和36年6月)-85巻12号 (平成29年12月号)
• Call No.: Z17-14
• Original Material (JPNO): 00032258
• Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/3381401; https://dl.ndl.go.jp/pid/3381401
• Replaces (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/2384424; https://dl.ndl.go.jp/pid/2384424; info:ndljp/pid/11029046; https://dl.ndl.go.jp/pid/11029046
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

Table of Contents

国際的パートナーシップの確立を

超LSI組用絶縁膜 /

超LSIにおける極薄酸化膜

極薄絶縁膜形成技術

絶縁膜の評価技術