酸化亜鉛半導体のエピタキシャル成長の現状

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/8236792

Material type: 記事

Author: 羽賀浩一

Publisher: 国立高等専門学校機構仙台電波工業高等専門学校

Publication date: 2005

Material Format: Digital

Journal name: 仙台電波工業高等専門学校研究紀要平成17年度(35)

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Digital

Material Type: 記事
Title: 酸化亜鉛半導体のエピタキシャル成長の現状
Author/Editor: 羽賀浩一
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 国立高等専門学校機構仙台電波工業高等専門学校
Publication Date: 2005
Publication Date (W3CDTF): 2005
Alternative Title: Epitaxial growth of ZnO thin films
Periodical title: 仙台電波工業高等専門学校研究紀要
No. or year of volume/issue: 平成17年度(35)
Volume: 平成17年度(35)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/8236792
https://dl.ndl.go.jp/pid/8236792
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 独立行政法人
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00033
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2013-07-23T00:40:45+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2008-12-15
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/283753/www.sendai-ct.ac.jp/02annai/0205-syuppan/03-kiyo35.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/8236787
https://dl.ndl.go.jp/pid/8236787
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp