CMOS向け高誘電率ゲート絶縁膜の長期信頼性

Name of awarding university/degree: 筑波大学 (University of Tsukuba),博士（工学）/ Doctor of Philosophy in Engineering

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Material Type: 博士論文
Title: CMOS向け高誘電率ゲート絶縁膜の長期信頼性
Author/Editor: 藤井, 泉
Publication Date: 2014
Publication Date (W3CDTF): 2014
Degree grantor/type: 筑波大学 (University of Tsukuba)
Date Granted: 2014-02-28
Date Granted (W3CDTF): 2014-02-28
Dissertation Number: 甲第6749号
Degree Type: 博士（工学）/ Doctor of Philosophy in Engineering
Conferring No. (Dissertation): 甲第6749号
Text Language Code: jpn
Note (General): 2013
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/8977158
https://dl.ndl.go.jp/pid/8977158
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（自動収集）
Date Accepted (W3CDTF): 2015-03-01T07:09:42+09:00
Date Created (W3CDTF): 2015-02-12
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Periodical Title (URI): http://hdl.handle.net/2241/00123178
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp