超高真空処理・ウェット処理したシリコン表面の水および原子状水素との反応性の研究

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/9506328

Material type: 博士論文

Author: 宮城, 友昭

Publisher: -

Publication date: 2015-06

Material Format: Digital

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Name of awarding university/degree: 北陸先端科学技術大学院大学,博士（マテリアルサイエンス）

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Digital

Material Type: 博士論文
Title: 超高真空処理・ウェット処理したシリコン表面の水および原子状水素との反応性の研究
Author/Editor: 宮城, 友昭
Publication Date: 2015-06
Publication Date (W3CDTF): 2015-06
Degree grantor/type: 北陸先端科学技術大学院大学
Date Granted: 2015-06-24
Date Granted (W3CDTF): 2015-06-24
Dissertation Number: 甲第879号
Degree Type: 博士（マテリアルサイエンス）
Conferring No. (Dissertation): 甲第879号
Text Language Code: jpn
Subject Heading: silicon surface
nc-AFM
wettability
atomic hydrogen
Note (General): Supervisor:富取　正彦
マテリアルサイエンス研究科
博士
identifier:https://dspace.jaist.ac.jp/dspace/handle/10119/12875
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/9506328
https://dl.ndl.go.jp/pid/9506328
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文
https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
Acquisition Basis: 博士論文（自動収集）
Date Accepted (W3CDTF): 2015-10-01T11:16:23+09:00
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
Availability of remote photoduplication service: 可
Periodical Title (URI): http://hdl.handle.net/10119/12875
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp