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半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策

半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策
Digital文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 五島, 敬史郎, 日永, 康博, 窪, 慎二, 川畑, 隆広, 渡邊, 久倫, 岩元, 勇人, 萩本, 賢哉, 齋藤, 卓愛知工業大学2022-10総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.24p.10-11
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  • Subject Heading半導体洗浄 磁場 二流体スプレー 静電気障害（ESD）

半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策

半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策
Digital文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 五島, 敬史郎, 門村, 新吾, 日永, 康博, 窪, 慎二, 川畑, 隆広, 岩元, 勇人, 萩本, 賢哉, 齋藤, 卓愛知工業大学2020-11総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.22p.9-10
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  • Subject Heading半導体洗浄 磁場 二流体スプレー 静電気障害

半導体デバイス製造プロセスにおける静電気障害防止技術の確立

半導体デバイス製造プロセスにおける静電気障害防止技術の確立
Digital文書・図像類
清家, 善之, 森, 竜雄, 一野, 祐亮愛知工業大学2023-11総合技術研究所研究報告=Bulletin of Research Institute for Industrial Technology.25p.8-9
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  • Subject Heading半導体デバイス 二流体スプレー 静電障害 誘導帯電素子 帯電分布

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