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超低エネルギーイオン注入による半導体極浅ドーピング技術の開発

超低エネルギーイオン注入による半導体極浅ドーピング技術の開発
Paper図書
山本和弘, 産業技術総合研究所 [著][山本和弘]2005-2006<Y151-H17560299>
National Diet Library
  • Subject Headingイオン注入 / シリコン / ボロン / 超低エネルギー / 極浅接合

極浅半導体接合創成のためのコヒーレントフォノン励起型アニールプロセスの解明・制御

極浅半導体接合創成のためのコヒーレントフォノン励起型アニールプロセスの解明・制御
Paper図書
節原裕一, 大阪大学 [著][節原裕一]2003-2005<Y151-H15360388>
National Diet Library
  • Subject Heading半導体極浅接合 / フォノン励起 / 超短パルスレーザー / ミリ波照射 ...

極浅Pn接合形成とドーパント濃度分布のモデリング

極浅Pn接合形成とドーパント濃度分布のモデリング
Paper図書
桑野, 博, 慶応義塾大学1994-1995<Y151-H06452233>
National Diet Library
  • Subject Headingボロン拡散 シリコン 極浅接合 ドーパント分布のモデリング 急速熱拡散 元素ボロン拡散源

高周波プラズマ型荷電粒子源の開発とその応用

高周波プラズマ型荷電粒子源の開発とその応用
Digital博士論文
酒井, 滋樹京都大学 (Kyoto University)2009-03-23
Available onlineOther Libraries in Japan
  • Subject Headingイオン注入 極浅接合形成 帯電緩和 高周波プラズマ

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