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ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究
ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究
Paper
図書
後藤, 俊夫, 名古屋大学
1996-1998
<Y151-H08405005>
National Diet Library
Subject Heading
プラズマ CVD ラジカル 多結晶シリコン アモルフアスシリコン
赤外半導体レーザ吸収分光法
プロセス FT-IR
ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究
ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究
Digital
文書・図像類
後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文
1999-03
Available online
Other Libraries in Japan
Subject Heading
... 吸収分光法 多結晶シリコン
赤外半導体レ-ザ吸収分光法
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