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白金の触媒作用を用いるMOSデバイスゲ-ト酸化膜の絶縁耐圧性の向上

白金の触媒作用を用いるMOSデバイスゲ-ト酸化膜の絶縁耐圧性の向上
Paper図書
小林, 光, 大阪大学2000-2002<Y151-H12450127>
National Diet Library
  • Subject Heading白金処理 リ-ク電流 MOS シリコン SiO_2 化学酸化 低温プロセス Si/SiO_2界面

次世代極薄高誘電率ゲート絶縁膜中の不純物の挙動に関する理論的研究

次世代極薄高誘電率ゲート絶縁膜中の不純物の挙動に関する理論的研究
Paper図書
白石賢二, 筑波大学 [著][白石賢二]2004-2005<Y151-H16560020>
National Diet Library
  • Subject Heading高誘電率絶縁膜 / シリコンナノ構造 / 格子欠陥 / 第一原理計算 / Si/SiO_2界面 / High-k絶縁膜/Si界面 / トランジスタ特性 /...

極薄ゲート酸化膜の原子層制御形成技術の開発

極薄ゲート酸化膜の原子層制御形成技術の開発
Paper図書
財満, 鎮明, 名古屋大学1997-1999<Y151-H09555098>
National Diet Library
  • Subject HeadingSi/SiO2界面 シリコン初期酸化過程 高分解能エネルギー損失分充法 構造緩...

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