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高濃度オゾンガスを用いた半導体の低温酸化プロセスに関する研究
高濃度オゾンガスを用いた半導体の低温酸化プロセスに関する研究
紙
博士論文
西口哲也 [著]
[西口哲也]
[2010]
<UT51-2011-N812>
国立国会図書館
極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第8回研究会 (AP ; 032203)
極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第8回研究会 (AP ; 032203)
紙
図書
応用物理学会薄膜・表面物理分科会, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 編
応用物理学会薄膜・表面物理分科会
2003.1
<ND371-H113>
国立国会図書館
極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第9回研究会 (AP ; 042202)
極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性 : 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会研究報告 : 第9回研究会 (AP ; 042202)
紙
図書
応用物理学会薄膜・表面物理分科会, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 編
応用物理学会薄膜・表面物理分科会
2004.1
<ND371-H112>
国立国会図書館
Journal of the Vacuum Society of Japan
Journal of the Vacuum Society of Japan
紙
雑誌
日本真空協会
2008-2017
<Z16-474>
国立国会図書館
全国の図書館
明電時報
明電時報
紙
デジタル
雑誌
明電舎
<Z16-262>
国立国会図書館
全国の図書館
真空
真空
紙
雑誌
日本真空協会
1958-2007
<Z16-474>
国立国会図書館
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